工業(yè)超純水設(shè)備助力科技“芯”發(fā)展

時(shí)間：2024-01-22

　　在科技越來(lái)越發(fā)達(dá)的當(dāng)代社會(huì)，我們的生活已經(jīng)離不開各類電子產(chǎn)品。手機(jī)、電腦、相機(jī)、智能電器等等，為我們的生活帶來(lái)了極大的便利。電子產(chǎn)品市場(chǎng)需求很大，那么作為電子產(chǎn)品核心的芯片生產(chǎn)也是一個(gè)龐大的產(chǎn)業(yè)。

　　在芯片生產(chǎn)過(guò)程中，反復(fù)清洗是必然工序。通過(guò)采用超純水反復(fù)清洗來(lái)去除零配件上殘留的細(xì)微分子，將遺留的超微細(xì)顆粒污染物、金屬殘留、有機(jī)物等會(huì)造成芯片污染的污染源清潔干凈，以避免后續(xù)生產(chǎn)加工工藝失敗、電學(xué)失效，從而降低芯片成品報(bào)廢概率，減少生產(chǎn)廠的損失。

工業(yè)超純水設(shè)備

　　工業(yè)超純水設(shè)備是超純水生產(chǎn)的優(yōu)良工具，近年來(lái)，該設(shè)備技術(shù)設(shè)計(jì)不斷完善，為“芯”發(fā)展帶來(lái)了極大的幫助。工業(yè)超純水設(shè)備嚴(yán)格執(zhí)行國(guó)家對(duì)超純水發(fā)布實(shí)施的《儀器分析用高純水規(guī)格及試驗(yàn)方法》的標(biāo)準(zhǔn)，采用了雙級(jí)反滲透系統(tǒng)+EDI模塊的處理技術(shù)，由多介質(zhì)過(guò)濾器、活性炭過(guò)濾器、精密過(guò)濾器等組成的預(yù)處理系統(tǒng)、反滲透系統(tǒng)、EDI系統(tǒng)、拋光混床等構(gòu)成主要工藝段，生產(chǎn)超純水產(chǎn)量大、質(zhì)量高。

　　工業(yè)超純水設(shè)備選材優(yōu)良，耐酸堿清洗、抗高污染，在生產(chǎn)超純水時(shí)脫鹽效果非常突出。EDI模塊處理不會(huì)產(chǎn)生酸堿廢液，后續(xù)工藝不需要額外再進(jìn)行酸堿中和處理，提高了生產(chǎn)效率。工業(yè)超純水設(shè)備采用獨(dú)有的靶向離子交換系統(tǒng)針對(duì)超純水中難處理的硼及其他離子定向去除，并對(duì)礦物質(zhì)和微量元素充分處理，只保留氫氧原子，運(yùn)行不會(huì)有污染物析出，有效保證系統(tǒng)內(nèi)部無(wú)死水。該設(shè)備自動(dòng)化程度很高，能實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守，操作簡(jiǎn)便，為企業(yè)節(jié)約人力投入成本。

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　　編輯：新奇技術(shù)：加菲

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